건식 에칭 가스 디플루오로메탄(R32)|반도체 제조를 위한 고순도

Xiamen Juda Chemical & Equipment Co., Ltd.는 드라이 에칭 가스 디플루오로메탄(R32)의 주요 제조업체 및 공급업체 중 하나입니다. 중국 반도체 제조를 위한 고순도. 드라이 에칭 가스 디플루오로메탄(R32)을 찾고 계시다면|반도체 제조를 위한 고순도 제품을 우리 공장에서 경쟁력 있는 가격으로 구입하세요. 견적을 원하시면 저희에게 연락하세요.

건식 에칭 가스 디플루오로메탄(R32) - 제품 개요

플라즈마 에칭이라고도 알려진 건식 에칭은 고에너지 플라즈마를 사용하여{0}}웨이퍼 표면에서 물질을 제거합니다. 플라즈마는 웨이퍼에 충격을 가해 물질의 분자 결합을 깨고 에칭을 유발하는 화학적 반응성 이온과 자유 라디칼로 구성됩니다. 건식 식각 기술에는 반응성 이온 식각(RIE), 플라즈마 식각, 이온 식각 등이 있습니다. 건식 에칭을 사용하면 에칭 프로세스를 더 잘 제어할 수 있고, 더 높은 해상도를 제공하며, 더 복잡한 구조를 에칭할 수 있습니다.

 

건식 에칭 가스 디플루오로메탄(R32)화학식 CH2F2로도 알려져 있는 는 반도체 식각 및 플라즈마 식각 공정에 널리 사용되는 고순도 가스입니다. 이 고급 에칭 가스는 질화규소(Si3N4), 이산화규소(SiO2) 및 반도체 장치 제조에 일반적으로 사용되는 기타 재료와 같은 재료의 에칭을 포함하여 반도체 제조에서 복잡한 패턴을 생성하는 데 필수적입니다.

 

주요 기능 및 이점, 기술 사양

 

디플루오로메탄(R32)의 선도적인 공급업체로서 당사는 반도체 제조 시설 및 기타 산업 응용 분야의 특정 요구 사항을 충족하도록 맞춤화된 대량 공급 및 경쟁력 있는 가격을 제공합니다.

 

주요 특징 및 이점:

 고순도: 당사의 디플루오로메탄(R32)은 일반적으로 99.9% ~ 99.99% 범위의 반도체 산업의 엄격한 순도 요구 사항을 충족합니다.

 넓은 적용 범위: 반도체 제조의 건식 에칭 및 플라즈마 에칭 공정에 사용하기에 이상적입니다.

 빠른 응답 및 배송: 우수한 공급망 관리를 약속하며 빠른 리드 타임과 안정적인 배송을 보장합니다.

 맞춤형 포장: 특정 공급 요구 사항에 맞게 일회용 실린더, ISO 탱크 및 대량 포장으로 제공됩니다.

 산업 표준 준수: UN No. 3252(인화성 가스) 및 Class 2.1과 같은 글로벌 안전 및 규제 표준을 충족합니다.

 

기술 사양

모델 번호.	R32	모습	무색
지방 탄화수소 포화도	알칸	분자식	CH2F2
분자량	52.02	임계압력(MPa)	5.80
끓는점(도)	-51.70	밀도(30도)	0.958
ODP	0	애플리케이션	에어컨용 냉매, 냉매 R32
GWP	675	포장	일회용 실린더/리필용 실린더/ISO 탱크
수업번호	2.1	청정	99.9%~99.99%
유엔 아니요.	3252	기원	중국

 

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디플루오로메탄(R32)은 반도체 산업, 특히 정밀도와 고순도가 중요한 건식 에칭 및 플라즈마 에칭 응용 분야에서 널리 사용됩니다. 이는 집적 회로(IC), 마이크로전자 공학 및 MEMS(마이크로{2}}전자 기계 시스템) 장치 제조 공정의 필수 부분입니다.

일반적인 응용 분야:

반도체 소자의 Si3N4(질화규소) 층 에칭

마이크로 전자공학의 패턴 정의를 위한 SiO2(이산화규소)의 플라즈마 에칭

박막 및 정밀한 미세구조 생성을 위한 건식 에칭에 사용

우리는 B2B 반도체 조달에 포장과 배송 모두에 유연성이 필요한 경우가 많다는 것을 알고 있습니다. 우리는 고객의 고유한 요구 사항을 충족하기 위해 다양한 포장 옵션을 제공합니다.

일회용 실린더(표준 및 사용자 정의 크기)

ISO 탱크(대규모 및 산업 응용 분야용)

대량공급(대규모-지속적인 공급 계약의 경우)

리드타임: 수량과 목적지에 따라 일반적으로 30~40일 이내에 배송됩니다.

대량 주문: 가장 경쟁력 있는 가격과 수량에 따른 -할인을 받으려면 당사에 문의하세요.

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