전자 가스

• 육불화황 SF6 가스 반도체

  육불화황(SF6)은 대기 온도에서 무색의-유해하고 비{2}}가연성 가스입니다. 화학적으로 안정하고 절연성이 우수합니다. 육불화황(SF6)은 무기, 무색, 무취, 불연성, 매우 강력한 온실가스로 뛰어난 전기 절연체입니다. SF6은 6개의 불소 원자가 결합된 팔면체 구조를 가지고 있습니다. 중앙 황 원자.

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• 99.999% 5N 육불화황 가스 판매

  SF6는 육불화황의 약어입니다. 육불화황은 환경 온도에서 화학적 안정성과 불활성이 높은 무색, 무취의 무{1}}독성 가스입니다. 또한 이는 불연성이며-알려진 가장 무거운 가스 중 하나인 공기보다 약 5배 더 무겁습니다.-

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• 특수 가스 SF6 육불화황

  육불화황(SF6)은 무기, 무색, 무취, 불연성, 매우 강력한 온실 가스로 뛰어난 전기 절연체입니다. SF6은 중앙 황 원자에 부착된 6개의 불소 원자로 구성된 팔면체 구조를 가지고 있습니다.

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• 판매용 고순도 육불화황 가스

  종종 SF6로 축약되는 육불화황은 온실가스 특성에서 이산화탄소(CO2)와 유사성을 공유합니다. SF6는 네트워크의 안전하고 안정적인 작동을 보장하기 위해 전기 산업에서 주로 사용되는 합성 무취 가스입니다. 높은 안정성으로 유명한 SF6은 무독성, 비-인화성, 전기 음성 특성을 갖고 있어 효율성이나 상태를 손상시킬 수 있는 다른 화합물을 형성하지 않습니다.

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• 반도체 산업용 가스 C3F8

  반도체 산업: 옥타플루오로프로판 C3F8 가스와 산소의 혼합물은 플라즈마 에칭 재료로 사용되며, 이는 실리콘 웨이퍼의 금속 매트릭스와 선택적으로 반응합니다.

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• 눈 수술용 고순도 C3F8

  옥타플루오로프로판(C3F8, 퍼플루오로프로판으로도 알려져 있음, R218)은 안정성이 좋은 과불화 화합물입니다. 표준 조건에서 무색의 가스이며 물과 유기물에 대한 용해도가 매우 낮습니다.

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• 반도체 가스 육불화황 SF6

  육불화황 SF6은 반도체 건식 에칭에서 가장 일반적으로 사용되는 불화물 가스 중 하나입니다. 높은 선택성과 강한 에칭 속도가 특징입니다. 산화규소, 불화규소, 질화규소 등과 같은 저유전율 재료의 에칭에 적합합니다.

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• 건식 에칭 가스 디플루오로메탄(R32)|반도체 제조를 위한 고순도

  디플루오로메탄HFC-32/R32라고도 알려져 있으며 분자식: CH2F2는 Si3N4에 대한 이방성 에칭 가스로서 SiO2 및 Si에 대한 선택성이 상대적으로 낮습니다. 주요 에칭제인 것 외에도 불소/탄소 비율을 조정하기 위해 다른 주요 에칭제의 보조 가스로 사용할 수도 있습니다.

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• 반도체 응용 분야용 건식 에칭 가스로 사용되는 R32 디플루오로메탄(CH2F2)

  R32 디플루오로메탄HFC-32라고도 알려져 있으며 분자식: CH2F2는 Si3N4에 대한 이방성 에칭 가스로 SiO2 및 Si에 대한 선택성이 상대적으로 낮습니다. 주요 에칭제인 것 외에도 불소/탄소 비율을 조정하기 위해 다른 주요 에칭제의 보조 가스로 사용할 수도 있습니다.

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• 반도체 산업을 위한 99.999% C318 옥타플루오로사이클로부탄

  99.999%의 높은 C318 퍼플루오로사이클로부탄은 반도체 산업의 대규모 집적 회로 식각 및 세척에 사용할 수 있는 전자 가스입니다.-

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• 옥타플루오로사이클로부탄 가스 C4F8

  옥타플루오로사이클로부탄은 독특한 특성으로 인해 다양한 산업적 용도를 갖는 중요한 유기 화합물입니다.. 순도:99.9%~99.999%. 다른 이름:퍼플루오로사이클로부탄. 등급 표준:전자 등급, 산업 등급.

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• 고순도 99.999% 옥타플루오로사이클로부탄 C4F8 가스

  옥타플루오로사이클로부탄 C4F8 가스, 순도: 99.999%. 반도체 PECVD(Plasma Enhance. Chemical Vapor Deposition) 공정에 자주 사용되며, C4F8은 CF4 또는 C2F6의 대체 가스로 사용되며 세정 가스 및 반도체 공정 에칭 가스로 사용됩니다.

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