전자 가스

• 육불화황 SF6 가스 반도체

  육불화황(SF6)은 대기 온도에서 무색의-유해하고 비{2}}가연성 가스입니다. 화학적으로 안정하고 절연성이 우수합니다. 육불화황(SF6)은 무기, 무색, 무취, 불연성, 매우

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• 99.999% 5N 육불화황 가스 판매

  SF6는 육불화황의 약어입니다. 육불화황은 환경 온도에서 화학적 안정성과 불활성이 높은 무색, 무취의 무{1}}독성 가스입니다. 또한 이는 불연성이며-알려진 가장 무거운 가스 중

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• 특수 가스 SF6 육불화황

  육불화황(SF6)은 무기, 무색, 무취, 불연성, 매우 강력한 온실 가스로 뛰어난 전기 절연체입니다. SF6은 중앙 황 원자에 부착된 6개의 불소 원자로 구성된 팔면체 구조를

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• 판매용 고순도 육불화황 가스

  종종 SF6로 축약되는 육불화황은 온실가스 특성에서 이산화탄소(CO2)와 유사성을 공유합니다. SF6는 네트워크의 안전하고 안정적인 작동을 보장하기 위해 전기 산업에서 주로

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• 반도체 산업용 가스 C3F8

  반도체 산업: 옥타플루오로프로판 C3F8 가스와 산소의 혼합물은 플라즈마 에칭 재료로 사용되며, 이는 실리콘 웨이퍼의 금속 매트릭스와 선택적으로 반응합니다.

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• 눈 수술용 고순도 C3F8

  옥타플루오로프로판(C3F8, 퍼플루오로프로판으로도 알려져 있음, R218)은 안정성이 좋은 과불화 화합물입니다. 표준 조건에서 무색의 가스이며 물과 유기물에 대한 용해도가 매우

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• 반도체 가스 육불화황 SF6

  육불화황 SF6은 반도체 건식 에칭에서 가장 일반적으로 사용되는 불화물 가스 중 하나입니다. 높은 선택성과 강한 에칭 속도가 특징입니다. 산화규소, 불화규소, 질화규소 등과 같은

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• 건식 에칭 가스 디플루오로메탄(R32)|반도체 제조를 위한 고순도

  디플루오로메탄HFC-32/R32라고도 알려져 있으며 분자식: CH2F2는 Si3N4에 대한 이방성 에칭 가스로서 SiO2 및 Si에 대한 선택성이 상대적으로 낮습니다. 주요

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• 반도체 응용 분야용 건식 에칭 가스로 사용되는 R32 디플루오로메탄(CH2F2)

  R32 디플루오로메탄HFC-32라고도 알려져 있으며 분자식: CH2F2는 Si3N4에 대한 이방성 에칭 가스로 SiO2 및 Si에 대한 선택성이 상대적으로 낮습니다. 주요

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• 반도체 산업을 위한 99.999% C318 옥타플루오로사이클로부탄

  99.999%의 높은 C318 퍼플루오로사이클로부탄은 반도체 산업의 대규모 집적 회로 식각 및 세척에 사용할 수 있는 전자 가스입니다.-

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• 옥타플루오로사이클로부탄 가스 C4F8

  옥타플루오로사이클로부탄은 독특한 특성으로 인해 다양한 산업적 용도를 갖는 중요한 유기 화합물입니다.. 순도:99.9%~99.999%. 다른 이름:퍼플루오로사이클로부탄. 등급

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• 고순도 99.999% 옥타플루오로사이클로부탄 C4F8 가스

  옥타플루오로사이클로부탄 C4F8 가스, 순도: 99.999%. 반도체 PECVD(Plasma Enhance. Chemical Vapor Deposition) 공정에 자주

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